ロングテック株式会社
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製品情報
CMP研磨材
Nano Cerium Oxide CMP Abrasives
酸化セリウムCMP研磨材
研磨粒子サイズを精確に制御:
10~500nmの任意サイズに対応し、優れた粒径均一性と集中分布を実現
形制御可能:
異なる沈殿剤の組み合わせを用いることで、さまざまな形態の組成物を調製することができます。
多様な粒子タイプ:
当社では、燃焼型、コロイド型、および開発中のハイブリッド型の研磨材を製造可能です。
全工程管理:
当社は、原料の精製、プロセス合成、焼成、構成、粉砕・分散から超精密ろ過に至るまで全工程を一貫して対応しています。
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Tel.06-6123-1110
営業時間 10:00-18:00 定休日:土・日曜日
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