製品情報

Nano Cerium Oxide CMP Abrasives

酸化セリウムCMP研磨材

Nano Cerium Oxide CMP Abrasives左
Nano Cerium Oxide CMP Abrasives右
  • 研磨粒子サイズを精確に制御:
    10~500nmの任意サイズに対応し、優れた粒径均一性と集中分布を実現
  • 形制御可能:
    異なる沈殿剤の組み合わせを用いることで、さまざまな形態の組成物を調製することができます。
  • 多様な粒子タイプ:
    当社では、燃焼型、コロイド型、および開発中のハイブリッド型の研磨材を製造可能です。
  • 全工程管理:
    当社は、原料の精製、プロセス合成、焼成、構成、粉砕・分散から超精密ろ過に至るまで全工程を一貫して対応しています。

お問い合わせ

Tel.06-6123-1110

営業時間 10:00-18:00 定休日:土・日曜日

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